삼성 DRAM D1a, EUV로 더 빠르고 효율적인 메모리 만들기

EUV 노광이란? EUV는 ‘극자외선’의 약자로, 매우 짧은 파장의 빛을 이용해 반도체 회로를 정밀하게 그리는 기술이에요. 이 기술을 통해 매우 미세한 크기의 회로를 만들 수 있어서, 최신 반도체는 더 빠르고, 전력도 적게 소모하게 만들 수 있어요.

삼성 DRAM D1a 공정에서 EUV의 역할 삼성의 D1a 공정에서 EUV는 주로 배선(Interconnect)과 비아(Via) 레이어에 사용돼요. 간단히 말하면, DRAM 칩의 여러 부분을 연결하는 미세한 선들을 그릴 때 EUV 기술이 필요하죠. 이 기술을 쓰면 회로를 더 작게, 더 정확하게 만들 수 있어서 성능이 좋아지고, 더 적은 전력으로도 잘 작동할 수 있어요.

EUV 노광은 이 배선과 비아를 미세하게 만들 수 있도록 도와주는 기술이에요. 이 기술을 사용하면 DRAM의 성능을 높이면서 더 많은 데이터를 처리할 수 있게 됩니다.

다시 말해, EUV는 아주 정밀한 회로를 만들 수 있게 해주는 최신 기술로, 삼성의 DRAM D1a 공정에서 핵심적인 역할을 하고 있습니다.